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Substituted Pixyl Protecting Groups for Oligonucleotide Synthesis

机译：寡核苷酸合成的取代的保护基

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The present invention describes an improved hydroxyl protecting group of formula (1), wherein R²and R⁷are specified substituents and Q is O, S, NR¹⁰or N(C═O)R¹⁰.

机译：本发明描述了式（1）的改进的羟基保护基，其中R ^{2 和R ^{7 是指定的取代基，并且Q是O，S，NR ^{10 或N（C═O）R ^{10 。 <图像文件=“ US20070276139A1-20071129-C00001.GIF” he =“ 27.43mm” id =“ EMI-C00001” imgContent =“ chem” imgFormat =“ GIF” wi = “ 60.54mm” />}}}}

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公开/公告号US2007276139A1

专利类型
公开/公告日2007-11-29

原文格式PDF
申请/专利权人 QUANLAI SONG;SAK KHAMMUNGKHUNE;BRUCE S. ROSS;RICHARD H. GRIFFEY;
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申请/专利号US20050597808
发明设计人 BRUCE S. ROSS;RICHARD H. GRIFFEY;SAK KHAMMUNGKHUNE;QUANLAI SONG;
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申请日2005-02-10
分类号C07D311/82;C07D335/12;C07H19/06;C07H21/00;
国家 US
入库时间 2022-08-21 20:12:22

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