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CONTINUOUS CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS AND PROCESS FURNACE

机译:连续化学气相沉积工艺和工艺炉

摘要

An apparatus and process is provided for continuously depositing solid carbon at atmospheric pressure onto the surfaces and in the porosity of a thin substrate material.
机译:提供了一种用于在大气压下将固体碳连续沉积到薄基底材料的表面上和孔隙中的装置和方法。

著录项

  • 公开/公告号EP1534874A4

    专利类型

  • 公开/公告日2008-02-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HITCO CARBON COMPOSITES INC.;

    申请/专利号EP20030764767

  • 发明设计人 PRUETT JAMES G.;AWASTHI SHRIKANT;

    申请日2003-07-17

  • 分类号C23C16/00;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 19:58:51

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