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DESIGN STRUCTURE, FAILURE ANALYSIS TOOL AND METHOD OF DETERMINING WHITE BUMP LOCATION USING FAILURE ANALYSIS TOOL

机译:设计结构,故障分析工具以及使用故障分析工具确定白色碰撞位置的方法

摘要

A failure analysis tool, a method of using the tool and a design structure for designing a mask for protecting a critical area of wiring failure in a semiconductor chip during packaging is provided. The failure analysis tool includes a computer infrastructure operable to determine a risk area for wiring layer failure during solder bump formation by determining a distance from a center of a chip to a location for a solder bump processing and identifying an area at an edge of the location for the solder bump processes at a predetermined distance and greater from the center of the chip.
机译:提供了一种故障分析工具,一种使用该工具的方法以及一种用于设计掩模的设计结构,该掩模用于在封装期间保护半导体芯片中的布线故障的关键区域。故障分析工具包括计算机基础设施,该计算机基础设施可用于通过确定从芯片的中心到用于焊料凸点处理的位置的距离并识别该位置的边缘处的区域来确定焊料凸点形成期间布线层故障的风险区域。在距离芯片中心预定距离且更大的位置进行焊料凸点处理。

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