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A method for marking and visualization of an implant by means of an x-ray - phase contrast - tomography under no and an implant

机译:一种在没有植入物和植入物的情况下通过X射线相衬层析成像对植入物进行标记和可视化的方法

摘要

The invention relates to a method for marking and visualization of an implant by means of an x-ray - phase contrast - tomography under no and an implant (20, 21, 22), and in this case it is proposed, implants (20, 21, 22) with as unique specific properties with respect to the generated by the phase shift (δφV1, ΔφV2) in the case of a phase contrast - tomography under no to be used, wherein these specific properties, which is generated by the typical itself specific phase shift (δφV1, ΔφV2), by means of typical differences of the specific phases displacement values or by typical spatial structures of materials with well-defined phase shift values (δφV1, ΔφV2) can consist.
机译:本发明涉及一种用于通过在没有和植入物(20、21、22)下的X射线-相衬-断层摄影术对植入物进行标记和可视化的方法,并且在这种情况下,提出了植入物(20、21、22)。对于在相衬情况下通过相移(δφ V1 ,Δφ V2 )生成的图像具有独特的特定属性-断层扫描这些特定的特性是通过典型的自身特定相移(δφ V1 ,Δφ V2 )产生的,这些特定相移是通过特定相的典型差异产生的位移值或具有明确相移值(δφ V1 ,Δφ V2 )的材料的典型空间结构可以组成。

著录项

  • 公开/公告号DE102007038381A1

    专利类型

  • 公开/公告日2009-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号DE20071038381

  • 发明设计人

    申请日2007-08-14

  • 分类号A61B6/03;A61F2/06;A61F2/84;A61M25/095;A61L27/14;A61L27/50;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 19:09:40

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