要解决的问题:提供一种具有吹扫系统的化学药品输送系统,该系统相对于用于将化学药品从大容量输送罐输送,输送或供应或输送到制造工艺工具(例如:化学汽相淀积装置(CVD)等,更具体地说,涉及用于制造集成电路的处理工具。解决方案:基于净化技术,使用中级真空源,硬真空源和/或液体冲洗系统(506)的各种组合,公开了化学输送系统(500)。此外,输送系统还配备有用于加热化学输送系统的加热器系统。
版权:(C)2010,日本特许厅&INPIT
公开/公告号DE69941192D1
专利类型
公开/公告日2009-09-10
原文格式PDF
申请/专利号DE19996041192T
申请日1999-06-04
分类号F17C13;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 19:07:40