要解决的问题:提供一种裸露的植被恢复方法,该裸露的土地位于为保护基因水平而对运输的材料有限制的区域,或难以保护材料和设备等的区域。可以通过仅使用在要种植的土地的周边区域中获得的材料来形成种植基地,并且保护种植基地免受侵蚀和干燥,从而实现裸地的良好植被恢复。
解决方案:根据裸露地的植被恢复方法,至少将在地点2处吸收的土壤粘在裸露地1上,然后将小卵石或木屑3、3等粘在裸露的地面上。土壤2覆盖相同。
版权:(C)2006,JPO&NCIPI
公开/公告号JP4520810B2
专利类型
公开/公告日2010-08-11
原文格式PDF
申请/专利权人 東興ジオテック株式会社;
申请/专利号JP20040292262
发明设计人 吉田 寛;
申请日2004-10-05
分类号E02D17/20;A01G1;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:02:20