机译:垂直磁记录介质的制造方法,垂直磁记录介质,磁记录和重放装置,磁记录介质的制造方法,磁元件的制造方法,制造要素的制造方法,制造方法及其制造方法
公开/公告号JP2009295212A
专利类型
公开/公告日2009-12-17
原文格式PDF
申请/专利权人 SONY CORP;
申请/专利号JP20080145280
发明设计人 MIKI TAKESHI;
申请日2008-06-03
分类号G11B5/84;G11B5/851;G11B5/65;G11B5/64;G11B5/738;G11B5/02;H01L33;C23C14/06;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:02:01