机译:包含有机物的液体处理设备的清洁方法,包括根据pH值小于或大于6以及获得6 pH值的溶液,将设备暴露于periodide化合物的溶液中。或更高,或分别是氧化剂。
公开/公告号CL2010000029A1
专利类型
公开/公告日2010-05-07
原文格式PDF
申请/专利权人 X-FLOW B.V.;
申请/专利号CL20100000029
申请日2010-01-15
分类号B08B3/08;B08B9/00;
国家 CL
入库时间 2022-08-21 18:47:11