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Process to reduce the surface roughness of e.g. cordierite, Zero-expansion Pore-free Ceramics or silicon carbide lens holder used in micro-lithographic projection process

机译:减少表面粗糙度的工艺堇青石,零膨胀无孔陶瓷或用于微光刻投影过程的碳化硅透镜架

摘要

In a process to reduce the surface roughness of a sintered ceramic material, the pores are first sealed followed by surface polishing to reduce the roughness to less than 2 nm preferably less than 1 nm. Further claimed is a commensurate component of sintered ceramic material, a wafer holder and an optical element for a projector.
机译:在降低烧结陶瓷材料的表面粗糙度的过程中,首先将孔密封,然后进行表面抛光以将粗糙度降低至小于2nm,优选小于1nm。进一步要求保护的是由烧结陶瓷材料,晶片支架和用于投影仪的光学元件构成的相应部件。

著录项

  • 公开/公告号DE102009021330A1

    专利类型

  • 公开/公告日2009-12-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CARL ZEISS SMT AG;

    申请/专利号DE20091021330

  • 申请日2009-05-14

  • 分类号G02B1/10;G03F7/20;C23C14/06;C23C16/22;C04B41/85;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 18:28:21

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