要解决的问题:提供一种能够通过离子束辅助溅射法选择性地沉积四次对称MgO膜和三次对称MgO膜的膜沉积方法,并提供使用该方法的氧化物超导导体。四次对称的MgO膜和使用三次对称的MgO膜的氧化物超导导体。
解决方案:在通过离子束辅助溅射法在贱金属上沉积MgO膜的方法中,可以通过在<0.001 Pa的背压下执行膜沉积来沉积四次对称MgO膜。通过在0.001 Pa的背压下执行成膜,可以沉积三遍对称MgO膜。
COPYRIGHT:(C)2011,JPO&INPIT
公开/公告号JP2011137199A
专利类型
公开/公告日2011-07-14
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申请/专利权人 FUJIKURA LTD;
申请/专利号JP20090296881
申请日2009-12-28
分类号C23C14/48;H01B12/06;C01F5/02;C01G1;C23C14/08;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 18:25:34