首页> 外国专利> cleaner copper amp; amp; brass - chemical suitable for the cleaning of brass and copper used in the ballistics lab. chemical basis: sulphuric acid - water - powder - hydrogen peroxide.

cleaner copper amp; amp; brass - chemical suitable for the cleaning of brass and copper used in the ballistics lab. chemical basis: sulphuric acid - water - powder - hydrogen peroxide.

机译:清洁铜和放大器;黄铜-适用于清洗弹道实验室中使用的黄铜和铜的化学物质。化学基础:硫酸-水-粉末-过氧化氢。

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号ITNA20090052A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-02-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ARLISTICO MICHELE;

    申请/专利号IT2009NA00052

  • 发明设计人 ARLISTICO MICHELE;

    申请日2009-08-11

  • 分类号

  • 国家 IT

  • 入库时间 2022-08-21 18:03:46

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