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Electron beam observation device using a pre-specimen magnetic field as image-forming lens and specimen observation method

机译:利用标本磁场作为成像透镜的电子束观察装置及标本观察方法

摘要

An electron beam observation device includes a mechanism which disposes a specimen at an upstream side in an electron beam traveling direction outside an objective lens, from which an image is transferred under a magnification of 1/5 to 1/30, in addition to an inside of the objective lens in which a specimen is disposed at a time of ordinary observation.
机译:电子束观察装置除了内部以外,还具有:将检体配置在物镜外部的电子束行进方向的上游侧的结构,以1/5〜1/30的放大倍率转印图像。在通常观察时放置样品的物镜的角度。

著录项

  • 公开/公告号EP2091063B1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-07-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HITACHI LTD;

    申请/专利号EP20080019777

  • 发明设计人 KASAI HIROTO;HARADA KEN;

    申请日2008-11-12

  • 分类号H01J37/26;H01J37/20;H01J37/141;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 17:57:46

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