机译:用于低速正电子增亮的透射模减速器的生产方式,用于低速正电子增亮的透射模减速器,低速正电子束的亮度增强方式,高亮度低速正电子束发生器和正电子显微镜
公开/公告号JP4984063B2
专利类型
公开/公告日2012-07-25
原文格式PDF
申请/专利权人 国立大学法人 千葉大学;独立行政法人産業技術総合研究所;
申请/专利号JP20070150900
申请日2007-06-06
分类号G21K3;G21K1;G21K5/04;H01J37/06;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 17:39:29