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Robust design using manufacturability models

机译:使用可制造性模型的稳健设计

摘要

The present invention allows for a robust design using manufacturability models. A method, system and/or computer usable medium may be provided in an integrated circuit design to track sensitivity to a variation of process from wafer to wafer and/or fab to fab in order to assist the designers to anticipate the variations to improve the final yield of the products.
机译:本发明允许使用可制造性模型的鲁棒设计。可以在集成电路设计中提供一种方法,系统和/或计算机可用介质,以跟踪对从晶片到晶片和/或从晶圆到晶圆的工艺变化的敏感性,以帮助设计者预见变化以改善最终效果。产品的产量。

著录项

  • 公开/公告号US8122392B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-02-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DAVID WHITE;LOUIS K. SCHEFFER;

    申请/专利号US20080147436

  • 发明设计人 DAVID WHITE;LOUIS K. SCHEFFER;

    申请日2008-06-26

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:27:05

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