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Method for the measurement of material double refraction and system for measuring material double refraction

机译:材料双折射的测量方法和材料双折射的测量系统

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号PL211200B1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-04-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 POLITECHNIKA WROCŁAWSKA;

    申请/专利号PL20060380223

  • 发明设计人 MASAJADA JAN;KURZYNOWSKI PIOTR;

    申请日2006-07-17

  • 分类号G01N21/23;G01B9/02;G01J9/02;

  • 国家 PL

  • 入库时间 2022-08-21 17:23:15

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