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A SYNTHETIC METHODOLOGY FOR THE REDUCTIVE ALKYLATION AT THE C-3 POSITION OF INDOLES

机译:吲哚C-3位还原性烷基化的合成方法

摘要

A process for the reductive alkylation at the C-3 position of an indole compound in which the indole is treated with an aldehyde in the presence of a Lewis acid and a silicon hydride reducing agent. The process is useful for alkylating the C-3 position of indoles that contain acid-sensitive substituents at the N-1 position.
机译:一种在吲哚化合物的C-3位上还原烷基化的方法,其中在路易斯酸和氢化硅还原剂的存在下用醛处理吲哚。该方法可用于烷基化在N-1位含有酸敏感性取代基的吲哚的C-3位。

著录项

  • 公开/公告号KR20120082477A

    专利类型

  • 公开/公告日2012-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WYETH LLC;

    申请/专利号KR20127016929

  • 发明设计人 MICHALAK RONALD S.;RAVEENDRANATH PANOLIL;

    申请日2004-12-15

  • 分类号C07D209/18;C07D413/12;C07D417/12;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:09:32

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