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THERMAL SPRAYED YTTRIA-CONTAINING COATING FOR PLASMA REACTOR

机译:等离子体反应器热喷涂含钇涂层

摘要

Part of semiconductor processing equipment is erosion in the plasma atmosphere , corrosion resistance and / or corrosion - erosion and providing a thermal spray coating comprises yttria -containing . This coating can protect the substrate from physical and / or chemical attack .
机译:半导体加工设备的一部分是在等离子气氛中的腐蚀,抗腐蚀和/或腐蚀腐蚀,并提供包含氧化钇的热喷涂涂层。这种涂层可以保护基材免受物理和/或化学侵蚀。

著录项

  • 公开/公告号KR101107542B1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LAM RES CORP;

    申请/专利号KR20117000086

  • 发明设计人 ODONNELL ROBERT J;DAUGHERTY JOHN E;

    申请日2003-06-12

  • 分类号H01J37/32;H01L21/302;H01L21/461;H05H1/24;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:08:42

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