要解决的问题:提供一种束照射电极的膜去除装置,其能够在抑制离子源的损伤的同时去除束照射电极的膜,配备有该束照射电极的离子源和用于去除的构件束辐射电极的膜。
解决方案:在该装置中,在与束辐射电极25的尖端相对的位置处在束辐射电极25之间施加电压,从而将离子原料气体或液态金属供应到该尖端。束照射电极25的一部分被高电场场电离,将离子化的离子原料气体或液态金属作为离子束抽出,在与这些离子束碰撞后释放二次电子的二次电子排出部51。当设置在移动部件150上时,该二次电子放电部51具有在与放电电极的尖端相对的状态下处于能够进行二次电子的放电的放电位置P2时,遮蔽离子束的行进的形状。束照射电极25。
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公开/公告号JP5302048B2
专利类型
公开/公告日2013-10-02
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社神戸製鋼所;
申请/专利号JP20090046926
申请日2009-02-27
分类号H01J27/26;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 16:56:41