首页> 外国专利> The etchant, and conductive high-molecular patterning conductive high-molecular the manner null

The etchant, and conductive high-molecular patterning conductive high-molecular the manner null

机译:蚀刻剂和导电高分子图案化导电高分子的方式为零

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an etching liquid for a conductive polymer, which exhibits excellent etching performance to the conductive polymer, and to provide a method for patterning the conductive polymer by using such the etching liquid for the conductive polymer.;SOLUTION: The etching liquid for the conductive polymers contains 0.5 wt.% and ≤70 wt.% (NH4)2Ce(NO3)6 or ≥0.5 wt.% and ≤30 wt.% Ce(SO4)2. The method for patterning the conductive polymer uses the etching liquid for the conductive polymer.;COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供用于导电聚合物的蚀刻液,其对导电聚合物表现出优异的蚀刻性能,并提供一种通过将这种蚀刻液用于导电聚合物来图案化导电聚合物的方法。用于导电聚合物的蚀刻液包含> 0.5 wt。%和≤ 70 wt。%(NH 4 2 Ce(NO 3 6 或≥ 0.5 wt。%和≤ 30 wt。%Ce(SO 4 2 。图案化导电聚合物的方法使用蚀刻液作为导电聚合物。;版权所有:(C)2008,JPO&INPIT

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号