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The film thickness prediction method thickness prediction program, recording medium, and film thickness predicting apparatus

机译:膜厚预测方法厚度预测程序,记录介质和膜厚预测装置

摘要

A film thickness predicting apparatus compares a measurement value of a copper plating formed on wiring grooves of various patterns measured using a TEG and a film thickness of the copper plating calculated based on a plating model and a condition file. The film thickness predicting apparatus then delivers optimal plating model from the comparison result and calculates the film thickness of the copper plating formed on a substrate surface to be designed using the optimal plating model. The film thickness predicting apparatus enables to conduct a highly accurate film thickness predicting simulation.
机译:膜厚预测装置将使用TEG测量的在各种图案的布线槽上形成的铜镀层的测量值与基于镀层模型和条件文件计算出的铜镀层的膜厚进行比较。然后,膜厚预测装置根据比较结果提供最佳的镀层模型,并使用该最佳的镀层模型计算在要设计的基板表面上形成的铜镀层的膜厚。膜厚预测装置能够进行高精度的膜厚预测模拟。

著录项

  • 公开/公告号JP5087864B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-12-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号JP20060171375

  • 发明设计人 福田 大輔;

    申请日2006-06-21

  • 分类号H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/522;H01L21/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 16:53:33

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