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High performance system-on-chip inductor using post passivation process

机译:采用后钝化工艺的高性能片上系统电感器

摘要

A system and method for forming post passivation inductors, and related structures, is described. High quality electrical components, such as inductors and transformers, are formed on a layer of passivation, or on a thick layer of polymer over a passivation layer.
机译:描述了用于形成后钝化电感器的系统和方法以及相关结构。高质量的电气组件(例如电感器和变压器)形成在钝化层上或钝化层上方的聚合物厚层上。

著录项

  • 公开/公告号US2013193553A9

    专利类型

  • 公开/公告日2013-08-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MOU-SHIUNG LIN;

    申请/专利号US20070668482

  • 发明设计人 MOU-SHIUNG LIN;

    申请日2007-01-30

  • 分类号H01L29/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:49:43

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