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APPARATUS FOR FORMING MEMORY LINES AND VIAS IN THREE DIMENSIONAL MEMORY ARRAYS USING DUAL DAMASCENE PROCESS AND IMPRINT LITHOGRAPHY

机译:使用双Damascene过程和隐式光刻术在三维记忆阵列中形成记忆线和通孔的装置

摘要

A memory layer in a three-dimensional memory array is provided. The memory layer includes a plurality of memory lines and vias formed by a damascene process using an imprint lithography template having a plurality of depths, wherein at least one depth corresponds to the memory lines and wherein at least one depth corresponds to the vias, and a plurality of memory cells operatively coupled to the memory lines. Numerous other aspects are disclosed.
机译:提供了三维存储阵列中的存储层。所述存储层包括多条存储线和通过镶嵌工艺使用具有多个深度的压印光刻模板形成的通孔,其中至少一个深度对应于所述存储线,并且其中至少一个深度对应于所述通孔,以及多个存储单元可操作地耦合到存储线。公开了许多其他方面。

著录项

  • 公开/公告号US2013264675A1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-10-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANDISK 3D LLC;

    申请/专利号US201313911294

  • 发明设计人 ROY E. SCHEUERLEIN;

    申请日2013-06-06

  • 分类号H01L21/48;H01L23/538;H01L27/10;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:48:32

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