首页> 外国专利> The compound oxide film and its production manner, the dielectricity material and the piezoelectric material which include the compound oxide film, the process which forms the compound oxide film in

The compound oxide film and its production manner, the dielectricity material and the piezoelectric material which include the compound oxide film, the process which forms the compound oxide film in

机译:复合氧化物膜及其制造方法,包括该复合氧化物膜的电介质材料和压电材料,形成复合氧化物膜的方法

摘要

The invention provides a complex oxide film having a high crystallinity, produced by forming the complex oxide film on a substrate surface and then calcining the complex oxide film in atmospheric gas under oxygen partial pressure of 1x10-3 Pa or less at 400° C. or more and a production method thereof. Further, the invention provides a dielectric or piezoelectric material containing the complex oxide film, a capacitor and a piezoelectric element using the material, and an electronic device comprising the element.
机译:本发明提供了具有高结晶度的复合氧化物膜,该复合氧化物膜是通过在基板表面上形成复合氧化物膜,然后在400℃或1x10-3Pa以下的氧分压下在大气中将复合氧化物膜煅烧而制备的。更多及其生产方法。此外,本发明提供了包含复合氧化物膜的电介质或压电材料,使用该材料的电容器和压电元件以及包括该元件的电子设备。

著录项

  • 公开/公告号JP5383041B2

    专利类型

  • 公开/公告日2014-01-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昭和電工株式会社;

    申请/专利号JP20070526913

  • 发明设计人 白川 彰彦;川崎 俊哉;福永 宏史;

    申请日2006-07-28

  • 分类号C01G23/00;H01G4/10;H01G4/12;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 16:10:45

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号