首页> 外国专利> Seam-based reduction and expansion of images using partial solution matrix dependent on dynamic programming access pattern

Seam-based reduction and expansion of images using partial solution matrix dependent on dynamic programming access pattern

机译:使用基于动态编程访问模式的部分解矩阵基于接缝的图像缩小和扩展

摘要

Systems, methods, and computer-readable storage media for resizing images using seam carving techniques may include generation of a partial solution matrix by at least partially isolating dependencies between sub-problems of a dynamic programming problem corresponding to its solution within different regions of an input image. The number and/or shape of the isolated (or partially isolated) sub-problems may be dependent on the access pattern used by a dynamic programming operation to identify seams in the input image. Multiple sub-problems may be processed independently and in parallel on respective processor core(s) or threads thereof to generate the partial solution matrix. The partial solution matrix may then be processed to identify one or more low-cost seams of the input image. The methods may be implemented as stand-alone applications or as program instructions implementing components of a graphics application, executable by a CPU and/or GPU configured for parallel processing.
机译:用于使用接缝雕刻技术来调整图像大小的系统,方法和计算机可读存储介质可以包括:通过至少部分隔离动态编程问题的子问题之间的依赖性来生成部分解决方案矩阵,该子问题对应于其在输入的不同区域内的解决方案图片。隔离的(或部分隔离的)子问题的数量和/或形状可以取决于动态编程操作用来识别输入图像中的接缝的访问模式。多个子问题可以在相应的处理器核心或其线程上独立地和并行地处理,以生成部分解矩阵。然后可以处理部分解矩阵以识别输入图像的一个或多个低成本接缝。所述方法可以被实现为独立应用或被实现为图形应用的组件的程序指令,其可以被配置用于并行处理的CPU和/或GPU执行。

著录项

  • 公开/公告号US8581937B2

    专利类型

  • 公开/公告日2013-11-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CHINTAN INTWALA;

    申请/专利号US20080251163

  • 发明设计人 CHINTAN INTWALA;

    申请日2008-10-14

  • 分类号G09G5/00;G06F15/80;G06T1/60;G06K9/20;G06K9/32;G06K9/54;G05B19/18;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:01:56

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号