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REDUCTANT SUPPLY DEVICE AND REDUCTANT SUPPLY METHOD IN DENITRIFICATION SYSTEM

机译:脱硝系统中的还原剂供应装置及还原剂供应方法

摘要

The present invention relates to a reductant supply device for supplying a reductant into a denitrification system for exhaust gas denitrification and, more specifically, to a reductant supply device and a reductant supply method in a denitrification system, by which cost reduction and the efficiency of maintenance can be improved by enabling a control through a one-directional check valve mounted on a line connecting a dosing part and a spraying part even without additionally mounting a separate control panel between the dosing part and the spraying part unlike the prior art when cleaning the spraying part in which a reductant remains and the line.
机译:还原剂供给装置,还原剂供给装置及还原剂供给方法技术领域本发明涉及将还原剂供给到用于排气脱硝的脱硝系统中的还原剂供给装置,更具体地,涉及一种能够降低成本并提高维护效率的脱氮系统中的还原剂供给装置及还原剂供给方法。通过在安装剂量连接部分和喷射部分的管路上通过单向止回阀进行控制,甚至在清洁喷射过程时无需像现有技术那样在剂量部分和喷射部分之间另外安装单独的控制面板,就可以改善控制性能残留还原剂的部分和管线。

著录项

  • 公开/公告号WO2014084542A1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-06-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PANASIA CO.LTD.;

    申请/专利号WO2013KR10537

  • 发明设计人 LEE SOO-TAE;SONG OK-RYEOL;JUNG SUNG-WON;

    申请日2013-11-20

  • 分类号B01D53/79;B01D53/54;B01D53/14;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 15:49:22

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