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Method for synthesizing thioether-bridged organosilica complex and hollow or mesoporous carbon structure and silica structure using the same complex

机译:硫醚桥连的有机二氧化硅配合物以及使用该配合物的中空或中孔碳结构和二氧化硅结构的合成方法

摘要

PURPOSE: A method of synthesizing a hollow carbon structure and silica structure is provided to ensure a simpler manufacturing process and efficient manufacturing cost. CONSTITUTION: A manufacturing method of a hollow carbon structure comprises steps of: manufacturing a spherical silica/carbon complex including bis3-(triethoxysilyl)propyl tetrasulfide(TESPTS) or bis3-(triethoxysilyl)propyl disulfide(TESPDS) and octadecyl trimethoxysilane(C_18TMS); firing the spherical silica/carbon complex under nitrogen; and selectively removing silica particles with etchant liquid after firing. A manufacturing method of a hollow silica structure comprises steps of: manufacturing a spherical silica/carbon complex including TESPTS or TESPDSand cetyltrimethylammonium bromide(CTAB); and firing the spherical silica/carbon complex under air.
机译:目的:提供一种合成空心碳结构和二氧化硅结构的方法,以确保更简单的制造工艺和有效的制造成本。构成:中空碳结构的制造方法包括以下步骤:制造球形二氧化硅/碳络合物,其中包括双3-三(三乙氧基甲硅烷基)丙基二硫化物(TESPTS)或双三(三乙氧基甲硅烷基)丙基二硫化物(TESPDS)和十八烷基三甲氧基硅烷(C_18TMS);在氮气下烧制球形二氧化硅/碳配合物;烧成后,用蚀刻液选择性地除去二氧化硅颗粒。中空二氧化硅结构的制造方法包括以下步骤:制造包含TESTPS或TESDPS和十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)的球形二氧化硅/碳配合物;然后在空气中烧制球形二氧化硅/碳配合物。

著录项

  • 公开/公告号KR101399344B1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-05-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20120010411

  • 发明设计人 유종성;

    申请日2012-02-01

  • 分类号C01B31/02;C01B33/023;H01M8/02;H01M4/583;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 15:40:49

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