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spin injection electrode structure and spin transport device using the same

机译:自旋注入电极结构和使用该结构的自旋输运装置

摘要

The present invention spin injection electrode which enables a highly efficient spin injection into the semiconductor providing a structure, the spin transport device using the same. As A material constituting the tunnel barrier layer, the use of aluminum oxide containing -phase. In addition, it will form a protective film on the outer periphery of the tunnel barrier layer. Thereby, it is possible to obtain crystals inside and bonding fewer defects at the interface quality spin injection electrode structures, efficient spin injection into the semiconductor becomes feasible, provide spin transport device high output characteristics can be obtained at room temperature it can. .BACKGROUND 2
机译:本发明的自旋注入电极,能够将自旋注入电极高效地自旋注入到具有结构的半导体中,该自旋传输电极使用其。作为构成隧道势垒层的材料,使用含有氧化铝的相。另外,它将在隧道势垒层的外周上形成保护膜。由此,可以在界面质量的自旋注入电极结构中获得内部的晶体并键合较少的缺陷,有效地自旋注入到半导体中变得可行,提供可以在室温下获得高输出特性的自旋传输装置。 。背景2

著录项

  • 公开/公告号JPWO2013122024A1

    专利类型

  • 公开/公告日2015-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TDK株式会社;

    申请/专利号JP20130558681

  • 发明设计人 小池 勇人;及川 亨;佐々木 智生;

    申请日2013-02-12

  • 分类号H01L29/82;H01L21/8246;H01L27/105;G11B5/39;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 15:28:15

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