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PROCESS MANAGEMENT SYSTEMS USING COMPARISON OF STATISTICAL DATA TO PROCESS PARAMETERS AND PROCESS MANAGEMENT DEVICES

机译:使用统计数据与过程参数和过程管理设备进行比较的过程管理系统

摘要

A process management system can include a processing device that can be configured to perform a semiconductor process on a plurality of wafers, the processing device controlled by a process parameter. A control device can be configured to acquire statistical data relating to the process parameter and can be configured to select a reference wafer from the plurality of wafers. The control device can be configured to compare a respective process parameter used for the reference wafer with the statistical data and can be configured to set a reference condition for the process parameter.
机译:处理管理系统可以包括处理设备,该处理设备可以被配置为在多个晶片上执行半导体处理,该处理设备由处理参数控制。控制装置可以被配置为获取与工艺参数有关的统计数据,并且可以被配置为从多个晶片中选择参考晶片。控制装置可以被配置为将用于参考晶片的各个处理参数与统计数据进行比较,并且可以被配置为设定处理参数的参考条件。

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