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RAY SHADOWING METHOD UTILIZING GEOMETRICAL STENCILS

机译:利用几何模板的阴影法

摘要

Aspects comprise a ray tracing shadowing method based on the data structure of a uniform grid of cells, and on local stencils in cells. The high traversal and construction costs of accelerating structures are cut down. The object's visibility from the viewpoint and from light sources, as well as the primary workload and its distribution among cells, are gained in the preprocessing stage and cached in stencils for runtime use. In runtime, the use of stencils allows a complete locality at each cell, for load balanced parallel processing.
机译:方面包括基于单元的均匀网格的数据结构以及单元中的局部模板的射线追踪遮蔽方法。减少了加速结构的高遍历和建造成本。在预处理阶段获得对象从视点和光源的可见性,以及主要工作负载及其在单元之间的分布,并存储在模具中以供运行时使用。在运行时,使用模板可以在每个单元中提供完整的局部性,以实现负载平衡的并行处理。

著录项

  • 公开/公告号US2014375640A1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-12-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 REUVEN BAKALASH;

    申请/专利号US201414479320

  • 发明设计人 REUVEN BAKALASH;

    申请日2014-09-07

  • 分类号G06T15/06;G06T15/60;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 15:22:37

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