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Test device for testing a connective layer between wafer-shaped samples and test method for testing the connective layer

机译:用于测试晶片状样品之间的连接层的测试装置以及用于测试连接层的测试方法

摘要

The method involves generating a layer thickness profile along a measuring track in defect region of compound layer (4), with blanked out reference arm (12) of the test device (1) and receiving a distance measurement profile on same measurement track with reference arm. A profile is generated using alternating scan measurement of layer thickness and distance between reference arm positions on same scan measuring track. The profile is compared with layer thickness profile and distance profile for classification of measured peak values as thickness readings or distance measurements.
机译:该方法包括沿着化合物层(4)的缺陷区域中的测量轨迹产生层厚度轮廓,其中测试装置(1)的参考臂(12)被消隐,并在与参考臂相同的测量轨迹上接收距离测量轮廓。使用交替扫描测量层厚度和同一扫描测量轨道上参考臂位置之间的距离来生成轮廓。将轮廓与层厚度轮廓和距离轮廓进行比较,以将测量的峰值分类为厚度读数或距离测量。

著录项

  • 公开/公告号EP2535680B1

    专利类型

  • 公开/公告日2015-09-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PRECITEC OPTRONIK GMBH;

    申请/专利号EP20120172165

  • 发明设计人 SCHÖNLEBER MARTIN;MICHELT BERTHOLD;

    申请日2012-06-15

  • 分类号G01B9/02;G01N21/88;G01B11/06;G01B11/24;G01N21/47;G01N21/84;G01N21/95;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 15:07:16

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