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PROCESS FOR PROVIDING A TOPOGRAPHY TO THE SURFACE OF A DENTAL IMPLANT

机译:向牙齿植入物表面进行断层摄影的过程

摘要

The present invention relates to a method of providing a shape to a tooth implant surface made of a ceramic material. The method of the present invention consists in etching at least a part of the surface of the tooth implant with an etching solution containing hydrofluoric acid at a temperature of 70 占 폚 or higher. The grain byproducts or agglomerates of the grains are removed from the ceramic material by the method described above.;Tooth implants, ceramic materials, core roughness
机译:本发明涉及一种为由陶瓷材料制成的牙齿植入物表面提供形状的方法。本发明的方法包括用含有氢氟酸的蚀刻溶液在70℃或更高的温度下蚀刻牙齿植入物的至少一部分表面。通过上述方法从陶瓷材料中去除晶粒的副产物或附聚物。牙齿植入物,陶瓷材料,芯部粗糙度

著录项

  • 公开/公告号KR101539229B1

    专利类型

  • 公开/公告日2015-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20080036362

  • 发明设计人 프랑크 호만;필리페 하버세쳐;

    申请日2008-04-18

  • 分类号A61C8;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 14:57:54

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