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METHOD AND DEVICE FOR IMPROVING THE SAFT ANALYSIS WHEN MEASURING IRREGULARITIES

机译:测量不规则性时改进安全性分析的方法和装置

摘要

The invention relates to a method and to a corresponding device in which irregularities regarding each detected measurement position within a measurement surface are detected using a local measurement density. Each echo signal received in response to each detected measurement position is then weighted in order to generate an image using a data processing device such that the irregularities are adjusted.
机译:本发明涉及一种方法和相应的装置,其中使用局部测量密度来检测关于测量表面内的每个检测到的测量位置的不规则性。然后对响应于每个检测到的测量位置而接收的每个回波信号进行加权,以便使用数据处理设备生成图像,从而调整不规则性。

著录项

  • 公开/公告号US2015346157A1

    专利类型

  • 公开/公告日2015-12-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号US201314761833

  • 发明设计人 HUBERT MOOSHOFER;

    申请日2013-10-23

  • 分类号G01N29/04;G01N29/44;G01N29/34;G01N29/24;G01N29/265;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:33:51

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