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Wynne-Dyson optical system with variable magnification

机译:可变放大率的Wynne-Dyson光学系统

摘要

A 1× Wynne-Dyson optical system for microlithography having a variable magnification is disclosed. The 1× Wynne-Dyson optical system has first and second prisms, and a positive lens group that includes a split lens having first and second split lens elements that reside adjacent the first and second prisms, respectively. The first and second split lens elements are axially movable to change the magnification by up to about 500 parts per million. An adjustable positive lens group for a 1× Wynne-Dyson optical system is also disclosed, wherein the positive lens group allows for small changes in the optical system magnification.
机译:公开了一种具有可变放大率的用于微光刻的1×Wynne-Dyson光学系统。 1×Wynne-Dyson光学系统具有第一和第二棱镜,以及正透镜组,其包括具有第一和第二分离透镜元件的分离透镜,该第一和第二分离透镜元件分别位于第一和第二棱镜附近。第一和第二分离透镜元件可轴向移动以将放大率改变至多约百万分之500。还公开了一种用于1×Wynne-Dyson光学系统的可调正透镜组,其中,正透镜组允许光学系统放大率的微小变化。

著录项

  • 公开/公告号US9488811B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ULTRATECH INC.;

    申请/专利号US201414341777

  • 发明设计人 DAVID G. STITES;

    申请日2014-07-26

  • 分类号G02B17/00;G02B15/14;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:30:56

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