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Plasma systems and methods including high enthalpy and high stability plasmas

机译:等离子系统和方法,包括高焓和高稳定性等离子

摘要

The present disclosure generally relates to systems, apparatus and methods of plasma spraying and plasma treatment of materials based on high specific energy molecular plasma gases that may be used to generate a selected plasma. The present disclosure is also relates to the design of plasma torches and plasma systems to optimize such methods.
机译:本公开总体上涉及基于可用于产生选定等离子体的高比能分子等离子体气体对材料进行等离子体喷涂和等离子体处理的系统,设备和方法。本公开还涉及等离子炬和等离子系统的设计,以优化这种方法。

著录项

  • 公开/公告号US9376740B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-06-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 VLADIMIR E. BELASHCHENKO;

    申请/专利号US201514876225

  • 发明设计人 VLADIMIR E. BELASHCHENKO;

    申请日2015-10-06

  • 分类号B23K10/00;C23C4/12;B23K10/02;H05H1/34;H05H1/42;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:29:51

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