机译:用于校正带电粒子辐射位置的程序,用于计算带电粒子辐射位置的校正程度的设备,带电粒子辐射系统以及用于校正带电粒子辐射位置的方法
公开/公告号US9355816B2
专利类型
公开/公告日2016-05-31
原文格式PDF
申请/专利权人 DAI NIPPON PRINTING CO. LTD.;
申请/专利号US201414773233
申请日2014-01-22
分类号H01J37/00;H01J37/304;H01J37/317;H01J37/20;
国家 US
入库时间 2022-08-21 14:29:17