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PLASMA ACCELERATION DEVICE AND PLASMA ACCELERATION METHOD

机译：等离子体加速装置及等离子体加速方法

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A plasma supplied from a supply path (1) is caused to accelerate due to a Hall electric field (E) produced by an interaction between electrons (e^-) released from a cathode (3), a radial magnetic field (B_d), and an electric field (E_x).

机译：由于从阴极（3）放射出的电子（e ^{-）之间的相互作用产生的霍尔电场（E），使得从供给路径（1）供给的等离子体加速产生电场。磁场（B _{d ）和电场（E _{x ）。}}}

著录项

公开/公告号WO2015177938A1

专利类型
公开/公告日2015-11-26

原文格式PDF
申请/专利权人 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES LTD.;NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION NAGOYA UNIVERSITY;
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申请/专利号WO2014JP68434
发明设计人 YAMAZAKI TAKUYA;SHIMIZU HIROFUMI;SASOH AKIHIRO;YOKOTA SHIGERU;HARADA SYOTA;BABA TERUAKI;
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申请日2014-07-10
分类号H05H1/54;F03H1;H05H1/24;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 14:20:30

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