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ACTUATOR FOR DYNAMICALLY CONTROLLING TILTING OF SHOWER HEAD INSIDE SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICE

机译:动态控制半导体加工装置内喷头倾斜的执行器

摘要

The present invention provides a shower head module control mechanism supporting a shower head module inside an upper end plate of a semiconductor substrate processing device. The shower head module control mechanism can be dynamically operated to control planarization of a facing plate of the shower head module with respect to an upper surface of a substrate pedestal module adjacent to the facing plate inside the semiconductor processing device.;COPYRIGHT KIPO 2017
机译:本发明提供一种莲蓬头模块控制机构,其在半导体基板处理装置的上端板的内部支撑莲蓬头模块。喷头模块控制机构可被动态地操作以控制喷头模块的面板相对于半导体处理装置内部与面板相邻的基板基座模块的上表面的平坦化。

著录项

  • 公开/公告号KR20170080501A

    专利类型

  • 公开/公告日2017-07-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LAM RESEARCH CORPORATION;

    申请/专利号KR20160180990

  • 发明设计人 WILTSE JOHNUS;

    申请日2016-12-28

  • 分类号H01L21/67;H01L21/02;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 13:27:02

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