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METHOD FOR REFINING CHEMICAL LIQUID FOR SEMICONDUCTOR PHOTOLITHOGRAPHY, REFINING DEVICE FOR CHEMICAL LIQUID FOR SEMICONDUCTOR PHOTOLITHOGRAPHY, AND CHEMICAL LIQUID FOR SEMICONDUCTOR PHOTOLITHOGRAPHY

机译:半导体光化学照相术的化学液体的精制方法,半导体光化学照相术的化学液体的精制装置以及半导体光化学照相术的化学液体

摘要

A method of purifying a liquid chemical for semiconductor photolithography including filtering a liquid chemical using a filter unit, and setting a temperature of the liquid chemical passing through at least the filter unit to be lower than room temperature. The temperature which is lower than room temperature is preferably 25° C.
机译:一种纯化用于半导体光刻的液体化学品的方法,该方法包括:使用过滤器单元过滤液体化学品;以及将至少通过过滤器单元的液体化学品的温度设置为低于室温。低于室温的温度优选为25℃。

著录项

  • 公开/公告号JP6404056B2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-10-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 東京応化工業株式会社;

    申请/专利号JP20140198015

  • 发明设计人 高嶋 勇人;中島 孝雄;

    申请日2014-09-29

  • 分类号G03F7/26;G03F7/38;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:08:29

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