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Co-Ni-BASED ALLOY DIAPHRAGM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

机译:钴镍基合金膜片及其制造方法

摘要

To provide a metal diaphragm that can improve chemical stability of a semiconductor process used herein and is suitable for valves or the like and a method of producing the same.SOLUTION: A Co-Ni-based alloy diaphragm has a composition consisting of Co: 30 mass% or more and 40 mass% or less, Ni: 27 mass% or more and 36 mass% or less, Cr: 12 mass% or more and 26 mass% or less, Mo: 8 mass% or more and 13 mass% or less, Nb: 0.5 mass% or more and 3 mass% or less, Ti: 0.01 mass% or less, with the balance being unavoidable impurities, and has a tensile strength of 1470 MPa or more, an elongation of 1.5% or more and a hardness of 500±30 Hv.SELECTED DRAWING: Figure 1
机译:提供一种可改善本文所用半导体工艺的化学稳定性并适用于阀门等的金属膜片及其生产方法。解决方案:Co-Ni基合金膜片的成分为Co:30质量%以上且40质量%以下,Ni:27质量%以上且36质量%以下,Cr:12质量%以上且26质量%以下,Mo:8质量%以上且13质量%。 Nb:0.5质量%以上且3质量%以下,Ti:0.01质量%以下,余量为不可避免的杂质,拉伸强度为1470MPa以上,伸长率为1.5%以上。硬度为500±30 Hv。选定的图:图1

著录项

  • 公开/公告号JP2019163537A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-09-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SEIKO INSTRUMENTS INC;

    申请/专利号JP20190029810

  • 发明设计人 SATO HIDETOMO;KAMATA TAKASHI;

    申请日2019-02-21

  • 分类号C22C30;C22C19/07;F16J3/02;C22F1/10;C22F1;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:24:43

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