机译:用于生成样本分析器的监视数据的设备,样本分析器,用于生成样本分析器的监视数据的系统,用于形成其的方法,用于生成样本分析器的监视数据的方法以及用于监视样本的方法
公开/公告号JP2019174424A
专利类型
公开/公告日2019-10-10
原文格式PDF
申请/专利权人 SYSMEX CORP;
申请/专利号JP20180066071
发明设计人 ASIDA MAMORU;DAITO MOTONARI;KINO FUMIKO;YOSHIMOTO TOMOKO;SEKI AKANE;NAKAJIMA KAZUHIRO;HIRANO HIDEKI;
申请日2018-03-29
分类号G01N35;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 12:23:12