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窒化ホウ素膜の成長装置および方法

机译:氮化硼膜的生长设备和方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a uniform h-BN film more simply by using a horizontal type CVD device.;SOLUTION: A growing device of a boron nitride film includes a horizontal type (lateral type) reaction tube 101 having one end provided with an introduction port 102 for introducing raw material gas, and the other end provided with a discharge port 103, a raw material gas supply part 104 for supplying the raw material gas into the reaction tube 101 from the introduction port 102, and an auxiliary reaction tube 105 arranged inside the reaction tube 101. The auxiliary reaction tube 105 is arranged extendedly in the same direction as an extension direction of the reaction tube 101, and the auxiliary reaction tube 105 includes a closed part 106 on the introduction port 102 side, and an opening 107 on the discharge port 103 side.;SELECTED DRAWING: Figure 1;COPYRIGHT: (C)2019,JPO&INPIT
机译:解决的问题:通过使用水平型CVD装置更简单地形成均匀的h-BN膜。解决方案:氮化硼膜的生长装置包括水平型(侧向)反应管101,其一端具有引入口102用于引入原料气体,另一端设有排出口103,原料气体供应部分104,用于将原料气体从引入口102供应到反应管101中,以及辅助反应管辅助反应管105配置在反应管101的内部。辅助反应管105在与反应管101的延伸方向相同的方向上延伸设置,辅助反应管105在导入口102侧具有封闭部106,在反应管101的内部设置有封闭部106。排出口103侧的开口107 .;选定的图纸:图1;版权:(C)2019,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2019035109A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-03-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NIPPON TELEGR & TELEPH CORP NTT;

    申请/专利号JP20170156740

  • 发明设计人 熊倉 一英;ワン シェンナン;

    申请日2017-08-15

  • 分类号C23C16/38;C01B21/064;C23C16/455;H01L21/318;H01L21/31;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:20:18

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