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表示装置および表示装置の製造方法

机译:显示装置及其制造方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily lower the resistance of a source region and a drain region configured of an oxide semiconductor in a thin film transistor.;SOLUTION: A display device comprises a thin film transistor on a substrate. The thin film transistor comprises: a gate electrode; an oxide semiconductor film having a channel region opposite to the gate electrode, a source region on one side of the channel region and a drain region on the other side thereof; an inorganic insulation film disposed in contact with the oxide semiconductor film, and having a first connection hole; and a source electrode and a drain electrode respectively connected via the first connection hole to the source region and the drain region. The inorganic insulation film is configured of an insulation film containing metal and ion species used for ion implantation, and the oxide semiconductor film has a low resistance region containing the metal as a dopant in the source region and the drain region.;SELECTED DRAWING: Figure 2;COPYRIGHT: (C)2019,JPO&INPIT
机译:解决的问题:为了容易地降低薄膜晶体管中由氧化物半导体构成的源区和漏区的电阻。解决方案:显示装置在基板上包括薄膜晶体管。薄膜晶体管包括:栅电极;氧化物半导体膜,其具有与栅电极相对的沟道区域,在该沟道区域的一侧上的源极区域和在其另一侧上的漏极区域;无机绝缘膜设置成与氧化物半导体膜接触并具有第一连接孔;源电极和漏电极分别通过第一连接孔连接到源区和漏区。无机绝缘膜由包含用于离子注入的金属和离子种类的绝缘膜构成,并且氧化物半导体膜在源极区和漏极区中具有包含金属作为掺杂剂的低电阻区。 2;版权所有:(C)2019,日本特许厅&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2019036615A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-03-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JAPAN DISPLAY INC;

    申请/专利号JP20170156386

  • 发明设计人 渡邊 裕一;鈴村 功;

    申请日2017-08-14

  • 分类号H01L21/336;H01L29/786;H01L21/265;G02F1/1368;H01L51/50;H01L27/32;G09F9/00;G09F9/30;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:20:02

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