首页> 外国专利> ODAK DÜZLEM DİZİNİ KOLON YAPILARINDA ELEKTROLİZ YOLUYLA İNDİYUM (In) METAL KAPLAMA YÖNTEMİ

ODAK DÜZLEM DİZİNİ KOLON YAPILARINDA ELEKTROLİZ YOLUYLA İNDİYUM (In) METAL KAPLAMA YÖNTEMİ

机译：聚焦平面指数中的电镀铟（In）金属方法

页面导航

摘要
著录项
相似文献

摘要

Bu buluş odak düzlem dizini (ODD) kolon yapılarında indiyum (In) metal kaplama yöntemi ile ilgili olup, özellikle odak düzlem dizini (ODD) kolon yapılarında (9) homojen kalınlığın elde edilmesi için sahte piksel çerçevesi (11) oluşturarak elektroliz yoluyla indiyum (In) metal (8) kaplama yöntemi ile ilgilidir.

机译：本发明涉及焦平面阵列（ODD）柱结构中，特别是焦平面阵列（ODD）柱结构（9）中的铟（In）金属镀覆方法，其形成伪像素框架（11）以通过电解实现铟（In）的均匀厚度。）是指金属（8）的涂覆方法。

著录项

公开/公告号TR201713719A2

专利类型
公开/公告日2019-03-21

原文格式PDF
申请/专利权人 ASELSAN BİLKENT MİKRO NANO TEKN SAN VE TİC A Ş.;
展开▼

申请/专利号TR20170013719
发明设计人 MEHMET CİHAN ÇAKIR;OKAN ATEŞAL;MEHMET DENİZ ÇALIŞKAN;EKMEL ÖZBAY;LEVENT ÖZKARAYEL;
展开▼

申请日2017-09-15
分类号C25D5;H01L23;
国家 TR
入库时间 2022-08-21 12:00:43

相似文献

专利
中文文献