首页> 外国专利> PYRIDINIUM, QUINOLINIUM, ACRIDINIUM, PYRYLIUM, CHROMENYLIUM OR XANTHYLIZUM REACTIVE DESORPTION AND/OR LASER ABLATION IONIZATION MATRICES AND USE THEREOF

PYRIDINIUM, QUINOLINIUM, ACRIDINIUM, PYRYLIUM, CHROMENYLIUM OR XANTHYLIZUM REACTIVE DESORPTION AND/OR LASER ABLATION IONIZATION MATRICES AND USE THEREOF

机译:吡啶鎓,喹啉鎓,P啶鎓,吡啶鎓,铬或黄原酸反应性脱附和/或激光烧蚀电离基质及其用途

摘要

The present disclosure concerns use of compounds of formula I, or salts thereof, as reactive matrices for desorption and laser ablation ionization spectrometry. The disclosure further concerns compounds of formula II, or salts thereof, and use of compounds of formula II or III, or salts thereof.
机译:本公开涉及式I的化合物或其盐作为用于解吸和激光烧蚀电离光谱法的反应性基质的用途。本公开进一步涉及式II的化合物或其盐,以及式II或III的化合物或其盐的用途。

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