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A METHOD FOR PRODUCING A COATING BY ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA TECHNOLOGY

机译:一种常压等离子体技术制备涂层的方法

摘要

Method and apparatus for manufacturing a barrier layer (1b) on a substrate. The apparatus comprises an atmospheric pressure glow discharge (APGD) plasma apparatus having at least two electrodes (2, 3) arranged to generate an atmospheric pressure glow discharge plasma in a treatment space (5) formed between said two electrodes (2, 3), and an atomic layer deposition (ALD) device. The apparatus is arranged to provide an inorganic oxide layer (1a) on the substrate (1) using the atmospheric pressure glow discharge (APGD) plasma apparatus, and to provide a consecutive deposition (1b) of between 1 and 70 atomic layers on the inorganic oxide layer (1a) using the ALD device. The result is a flexible barrier substrate having excellent water vapor transmission ratio, which is able to be manufactured efficiently.
机译:在衬底上制造阻挡层(1b)的方法和设备。该装置包括具有至少两个电极(2、3)的大气压辉光放电(APGD)等离子体装置,所述至少两个电极(2、3)布置成在在所述两个电极(2、3)之间形成的处理空间(5)中产生大气压辉光放电等离子体。原子层沉积(ALD)装置。该设备布置成使用大气压辉光放电(APGD)等离子设备在衬底(1)上提供无机氧化物层(1a),并在无机层上提供1至70个原子层的连续沉积(1b)使用ALD装置的氧化物层(1a)。结果是具有优异的水蒸气透过率的柔性阻挡基板,其能够被有效地制造。

著录项

  • 公开/公告号EP2764133B1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FUJIFILM MANUFACTURING EUROPE BV;

    申请/专利号EP20120770196

  • 发明设计人 DE VRIES HINDRIK;STAROSTINE SERGUEI;

    申请日2012-09-26

  • 分类号C23C16/455;C23C16/02;C23C16/54;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 11:42:41

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