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Optical configurations for optical field mappings for back-scanned and line-scanned imagers

机译:反向扫描和线扫描成像仪的光学场映射的光学配置

摘要

Examples are directed to optimal field mappings that provide the highest contrast images for back-scanned imaging methods. The mappings can be implemented for back-scanned imaging with afocal optics including an anamorphic field correcting assembly configured to implement a non-rotationally symmetric field mapping between object space and image space to adjust distortion characteristics of the afocal optics to control image wander on a focal plane array. The anamorphic field correcting assembly can include one or more mirrors or lenses having non-rotationally symmetric aspherical departures.
机译:示例针对的是最佳场映射,该最优场映射为反向扫描成像方法提供了最高对比度的图像。可以利用包括光学场校正组件的变形光学校正组件的背扫描成像来实现该映射,该变形场校正组件被配置为在物镜空间和图像空间之间实现非旋转对称的场映射,以调整光学光学组件的畸变特性,以控制焦点上图像漂移平面数组。变形场校正组件可以包括一个或多个具有非旋转对称非球面偏差的反射镜或透镜。

著录项

  • 公开/公告号US10690903B2

    专利类型

  • 公开/公告日2020-06-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RAYTHEON COMPANY;

    申请/专利号US201815988088

  • 发明设计人 DAVID N. SITTER JR.;

    申请日2018-05-24

  • 分类号G02B23/06;H04N5/353;H04N5/232;G02B13/08;G02B13/14;G02B17/08;G02B27/64;G02B27;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:31:16

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