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Innovative source assembly for ion beam production

机译:用于离子束生产的创新离子源组件

摘要

A source assembly for ion beam production is disclosed herein. An example source assembly may include a pair of plates separated by a distance, with each plate having an aperture, and the respective apertures aligned, and an ionization space defined at least by the distance and the respective apertures, where a ratio of the distance to an ionic mean free path of a gas in the ionization space is greater than one.
机译:本文公开了用于产生离子束的源组件。示例性源组件可包括一对板,该板以一定距离隔开,每个板具有孔,并且各个孔对准,以及至少由该距离和各个孔限定的电离空间,其中距离与气体在电离空间中的离子平均自由程大于一个。

著录项

  • 公开/公告号US10651005B2

    专利类型

  • 公开/公告日2020-05-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FEI COMPANY;

    申请/专利号US201815884332

  • 申请日2018-01-30

  • 分类号H01J37/08;H01J37/147;H01J37/28;H01J37/26;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:31:11

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