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PRODUCTION METHOD OF CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING SLURRY COMPOSITION, COMPRISING ABRASIVE WHICH HAS NARROW PARTICLE SIZE DISTRIBUTION

机译:化学-机械抛光淤浆组合物的生产方法,包括粗粒度分布较窄的磨料

摘要

The present invention relates to a production method of a chemical-mechanical polishing slurry composition, comprising an abrasive which has narrow particle size distribution, and to a polishing slurry composition. The polishing slurry composition produced through the production method of the chemical-mechanical polishing slurry composition has constant average particle size due to narrow particle size distribution of a wet milled abrasive. The production method of a chemical-mechanical polishing slurry composition comprises the steps of: mixing an abrasive, a dispersant, and a pH adjusting agent; and wet-milling a mixture using a wet milling machine.;COPYRIGHT KIPO 2020
机译:化学机械抛光浆料组合物的制造方法以及抛光浆料组合物技术领域本发明涉及一种化学机械抛光浆料组合物的制造方法,其包括粒径分布窄的磨料。通过化学机械抛光浆料组合物的生产方法生产的抛光浆料组合物由于湿磨磨料的窄粒度分布而具有恒定的平均粒度。化学机械抛光浆料组合物的生产方法包括以下步骤:混合磨料,分散剂和pH调节剂;并使用湿磨机湿磨混合物。; COPYRIGHT KIPO 2020

著录项

  • 公开/公告号KR20200046896A

    专利类型

  • 公开/公告日2020-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SOULBRAIN CO. LTD.;

    申请/专利号KR20180128684

  • 发明设计人 PARK GUN HO;HAN MYEONG HOON;

    申请日2018-10-26

  • 分类号C09G1/02;C09K3/14;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:07:14

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