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Copper precursor for intense pulsed light sintering manufacturing method for thereof and intense pulsed light sintering method for thereof

机译:用于强脉冲光烧结的铜前驱体的制造方法及其强脉冲光烧结的方法

摘要

A photo-sintered copper precursor comprising copper nanoparticles, and an oxide film made of copper (II) oxide (CuO) surrounding the surface of the copper nanoparticles to a predetermined thickness, a method for manufacturing the same, and a method for photo-sintering the same are provided. .
机译:一种光烧结的铜前驱体,其包括铜纳米颗粒和由铜(II)氧化物制成的氧化膜,该氧化膜将铜纳米颗粒的表面围绕预定的厚度,其制造方法和光烧结方法提供相同的。 。

著录项

  • 公开/公告号KR20200110539A

    专利类型

  • 公开/公告日2020-09-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 한양대학교 산학협력단;

    申请/专利号KR20190029227

  • 发明设计人 김학성;유충현;장용래;추지현;

    申请日2019-03-14

  • 分类号C09D11/037;B22F1;C09D11/033;C09D11/322;C09D11/52;H01B1/16;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:05:55

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