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放射性同位素制造装置及放射性同位素的制造方法

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本发明能够兼顾提高靶的耐压性和提高靶液的冷却效果，充分抑制靶液的沸腾。放射性同位素制造装置具备：照射放射线的回旋加速器、具有收容靶液(L)的收容凹部(40)的靶(20)。收容凹部(40)包括：用于导入从回旋加速器照射的放射线的开口部(44)；朝向离开开口部(44)的方向凹陷，以具有顶部(58)的球面状的底面(48)。靶(20)配置成从回旋加速器照射的放射线的照射轴(X)和底面(48)之间的相交位置在顶部(58)的正下方。

著录项

公开/公告号CN101681689B

专利类型发明专利
公开/公告日2012-07-04

原文格式PDF
申请/专利权人住友重机械工业株式会社;
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申请/专利号CN200880019360.9
发明设计人小笠原毅;矢岛晓;佐野正美;
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申请日2008-04-09
分类号
代理机构永新专利商标代理有限公司;
代理人徐殿军
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:10:33

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2012-07-04

授权

授权
2010-05-05

实质审查的生效 IPC(主分类):G21G 1/10 申请日:20080409

实质审查的生效
2010-03-24

公开

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